ASML日前表示，现有现目前的技术继续间技术创新足够将芯片制程推进至至少1纳米节点，包括诸多前瞻技术。创新长此外，足实至更光刻系统分辨率的艺摩改进（预计每6年左右缩小2倍）和边缘放置误差（EPE）对精度的衡量也将进一步推动芯片尺寸缩小。从整个行业的尔定发展路线来看，未来十年甚至更长时间内，生效技术创新将使摩尔定律继续生效。年甚
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ASML日前表示，目前的技术创新足够将芯片制程推进至至少1纳米节点，包括诸多前瞻技术。此外，光刻系统分辨率的改进预计每6年左右缩小2倍）和边缘放置误差EPE）对精度的衡量也将进一步推动芯片尺寸缩小。从
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